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专利名称：一种辐射制冷薄膜及其制备方法专利类型：发明专利发明人：不公告发明人申请号：CN201810974593.X申请日：20180824公开号：CN1095257A公开日：20181214
摘要：本发明公开了一种辐射制冷薄膜及其制备方法，包括基膜、反射层以及硬化层，所述硬化层包括上硬化层和下硬化层，所述上硬化层设于基膜的上表面，所述反射层设于基膜的下表面，所述下硬化层设于反射层下表面；其中，所述基膜包括高分子聚合物、微米球体和抗静电剂，所述高分子聚合物为PET、PBT、TPX、PC、PE、PP、PVC、PMMA、PS中的一种，所述微米球体为质量比为3：1的非金属氧化物和金属氧化物，所述高分子聚合物、微米球体与抗静电剂的质量比为75～98:1～20:1～5。本发明在基膜上表面设置上硬化层，在基膜下表面设置反射层，在反射层下表面设置下硬化层，硬化层保护基膜和反射层，反射层用于反射阳光，结构简单，辐射制冷效果好，耐老化性能好。
申请人：宁波瑞凌节能环保创新与产业研究院
地址：315599 浙江省宁波市奉化区东峰路88号2楼
国籍：CN
代理机构：深圳市中科创为专利代理有限公司
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