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专利名称：对包含铜及钼的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物及
使用其的蚀刻方法及显示装置的制造方法
专利类型：发明专利
发明人：松原将英,夕部邦夫,茂田麻里,浅井智子,原田奈津美申请号：CN201611175677.4申请日：20161219公开号：CN107099801A公开日：20170829
摘要：本发明提供对包含铜及钼的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物及使用其的蚀刻方法及显示装置的制造方法。根据本发明，能够提供一种液体组合物，其是用于对包含由以铜为主成分的物质形成的铜层及由以钼为主成分的物质形成的钼层的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物，所述液体组合物包含(A)过氧化氢3～9质量％、(B)酸6～20质量％、(C)碱化合物(其中，不包括咖啡因)1～10质量％、及(D)咖啡因0.1～4质量％，并且pH值为2.5～5.0。
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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