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专利名称：一种侦测系统专利类型：发明专利发明人：黄景山,张弢,蒋德念申请号：CN201710534219.3申请日：20170703公开号：CN107195571A公开日：20170922
摘要：本发明涉及半导体良率提升技术领域，尤其涉及一种侦测系统，其中，应用于侦测硅片的洗边情况，包括：晶圆机台，包括一传送台和一监控设备；成像仪支架，与传送台连接固定；多台成像仪，固定于成像仪支架上并离散设置于传送台的晶圆放置区边缘，用于采集晶圆机台上的晶圆的边缘图像；每台成像仪的采集点与晶圆放置区边缘的距离不同；监控设备分别与每台成像仪连接，用于接收每台监控设备采集的边缘图像，并根据边缘图像判断晶圆的洗边情况；上述技术方案能够应对晶圆发生扭折、破裂、断开以及晶圆半面以上的部分未清洗的情况。
申请人：上海华力微电子有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
国籍：CN
代理机构：上海申新律师事务所
代理人：俞涤炯
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