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专利名称：用于晶体硅片的清洗设备专利类型：实用新型专利发明人：陈海燕
申请号：CN201822139028.X申请日：20181219公开号：CN209119056U公开日：20190716
摘要：本实用新型提供了一种用于晶体硅片的清洗设备，包括依次排列的水膜槽、酸洗槽、碱洗槽、转换槽及清洗槽，所述酸洗槽内设有包含HF的酸溶液，以实现晶体硅片背表面的清洗；所述碱洗槽用以实现晶体硅片背表面的制绒或抛光；所述清洗槽内设有HCl溶液，以对晶体硅片进行表面清洗。本实用新型清洗设备适于新型晶体硅电池的清洗制程，可通过转换槽的调整满足晶体硅片量产工序中的不同需求。
申请人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司,盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司,阿特斯阳光电力集团有限公司
地址：215000 江苏省苏州市高新区鹿山路199号
国籍：CN
代理机构：苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：杨金
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