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专利名称：清洗晶片用的设备专利类型：发明专利
发明人：加里·L·安德森,基斯·威尔逊申请号：CN97103052.9申请日：19970307公开号：CN1162838A公开日：19971022
摘要：能始终依垂直取向处理晶片的半导体晶片擦洗与干燥设备。此设备使晶片大致沿垂向从设备的入口段运送到此设备的干燥机中。晶片置于盒内进入此设备并依其在此盒内码放秩序运出到另一盒内而保持各晶片的一致性。此设备构造成使晶片在其中处理的格子与外界隔绝而此格子内用来处理晶片的部件全为氟化塑料制备。这些处理部件的致动装置则位于另一格子内。可起动和停动晶片处理格子中的冲洗装置来一一冲洗晶片而无需在冲洗管路中采用阀门。
申请人：MEMC电子材料有限公司
地址：美国特拉华州
国籍：US
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：张祖昌
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