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专利名称：一种单晶硅片的清洗装置专利类型：实用新型专利发明人：李秀春
申请号：CN201720631284.3申请日：20170602公开号：CN206838634U公开日：20180105
摘要：本实用新型公开了一种单晶硅片的清洗装置，包括底座和U型框，所述底座上端固定连接U型框的一端，所述U型框的一侧壁贯通插接有进水管的一端，U型框的另一侧壁贯通插接有出水管的一端，此单晶硅片的清洗装置结构简单，通过加入紫外线灯、电阻丝和凸轮的组合结构，利用紫外线灯的旋转照射，对单晶硅片进行灭菌，再利用凸轮的偏心转而引起的震动，加深乙醇溶液与单晶硅片之间的接触，加大清洗力度，最后利用电阻丝对乙醇溶液进行加热，使有机杂质分子更易融进乙醇溶液，进一步加大了清洁效果，同时，利用紫外线灯、电阻丝和风机，对单晶硅片起到烘干、灭菌的作用，实现清洁、干燥的一体化设置。
申请人：福建鑫隆光伏科技有限公司
地址：353300 福建省三明市将乐县积善工业园区
国籍：CN
代理机构：北京天奇智新知识产权代理有限公司
代理人：曾捷
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