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专利名称：一种微流体通道的制备方法专利类型：发明专利
发明人：叶嘉明,吕志荣,苑宝龙,牟航申请号：CN201310750237.7申请日：20131226公开号：CN103723676A公开日：20140416
摘要：本发明提供一种微流体通道的制备方法，采用的技术方案是在待加工的基材表面贴合一个带有微通道结构的基片，继而借助外部泵阀系统将刻蚀液连续导入至基材表面，从而实现微流体通道的快速加工。使用本发明所提出的微流体通道的制备方法，制备过程快速简便，无需刻蚀牺牲层的制备，而且极大地降低了刻蚀液使用量，同时显著提高刻蚀效率，特别适合于微流控芯片的快速、大批量、低成本、低污染的制备。
申请人：浙江清华长三角研究院萧山生物工程中心
地址：311231 浙江省杭州市萧山区中国萧山科技城清华楼
国籍：CN
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