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专利名称：光掩模坯料、制造光掩模的方法、以及含铬材料膜专利类型：发明专利
发明人：吉川博树,深谷创一,稻月判臣,山本恒雄,中川秀夫申请号：CN201180056117.6申请日：20111118公开号：CN103229099A公开日：20130731
摘要：在本发明的含铬材料膜中，添加有能够使与铬的混合体系在400℃以下的温度下成为液相的元素。当将所述含铬材料膜用作可用于光掩模坯料中的光学膜(例如遮光膜、蚀刻掩膜、蚀刻停止膜)时，可在不依赖于特别膜设计的情况下，在维持常规含铬材料膜的光学特性等的同时，提高氯干蚀刻的速度，并且可提高图案化的精度。
申请人：信越化学工业株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：中原信达知识产权代理有限责任公司
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